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英特爾製程領先優勢消失 2021年恐被台積電與三星

鉅亨網

2018-04-17 18:22:39

鉅亨網 / NOWnews

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科技業分析公司 Linley Group 在最新的微處理器報告 (Microprocessor Report) 中指出,英特爾長期以來領先的晶片製造技術優勢「正在消失」,而在開發新製程也處於落後階段,台積電、三星和格羅方德有可能在 2021 年時超越英特爾。

Linley Group 的首席分析師 Linley Gwennap 寫道,英特爾 (INTC-US) 在「10 奈米製程」技術發展一再延誤,在下一代晶片製程進度上落後給全球最大晶圓代工廠台積電 (2330-TW)、半導體龍頭三星電子 (005930-KR) 與第二大晶圓代工廠格羅方德半導體。

台積電股價日線走勢圖
台積電股價日線走勢圖

這三家廠商為英特爾競爭對手提供晶片,如高通 (QCOM-US) 以及蘋果 (AAPL-US),所以這不僅僅市場技術戰爭,也是銷售戰爭,將影響到英特爾的晶片銷售,衝擊該公司營收。

Gwennap 在報告中仔細分析各家廠商生產的晶片電路「密度」,以及謹慎分析其他工藝技術指標,他的結論為,雖然各種技術之間的命名存在著差異,但競爭對手確實正在縮小與英特爾之間的差距。

舉例來說,Gwennap 指出,台積電、三星與格羅方德的 7 奈米製程,與英特爾的 10 奈米製程技術,在實質上非常的接近,結論是「這三家屬於領先群的晶圓代工廠,替 Intel 的主要競爭對手代工,將與 x86 巨頭站在同一水平」(註:x86 泛指一系列由英特爾開發處理器的架構。)

而 Gwennap 認為,這三大競爭者,都有可能在 2021 年時超越英特爾,率先邁入下一代晶片製程,但超越英特爾代表著,這些挑戰者將比英特爾先面臨下一代的光刻技術,半導體制程越先進,光刻設備便需要更複雜精密,將須承擔製造過程中產生的風險。

光刻 (lithography) 是製作半導體線路的關鍵製程,決定線路的精密度,而光刻設備決定晶圓的工藝能力,ASML 目前為全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商。

英特爾 16 日的股價收於每股 52.40 美元,小漲 1.04%。

英特爾股價日線走勢圖
英特爾股價日線走勢圖
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